化学式: Si
电阻率(20°C):0.01-400Ω.cm
成型工艺:喷涂
密度:≥2.26g/cm3(≥96%)
纯度:≥99.9%
应用:用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光学玻璃，触摸屏之AR膜系，LOW-E镀膜玻璃，半导体电子，平面显
示，触摸屏
最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM，直型、狗骨型，按客户要求定做
